Skillnaden mellan konventionell anodisk oxidation och hård anodisk oxidation

Skillnaden mellan konventionell anodisk oxidation och hård anodisk oxidation

Det finns följande skillnader i drift och beläggning:

Skillnader i driftsförhållanden är:

1. Temperaturen för konventionell anodisk oxidation är cirka 18-22 ℃, och den med tillsatser kan nå 30 ℃. Om temperaturen är för hög kommer pulver eller spricka att visas lätt. Den hårda anodiska oxidationen är i allmänhet under 5 ℃, och ju lägre temperaturen är, desto högre är den hårda anodiska oxidationen.

2. Koncentrationsskillnad: Konventionell anodisk oxidation är cirka 20%, och hård anodisk oxidation är i allmänhet 15% eller mindre.

3. Ström / spänningsskillnad: Konventionell anodisk oxidation Aktuell densitet: 1-1,5A / DM2; Hård anodisk oxidation: 1,5-3A/DM2

Skillnaderna i filmegenskaper är:

1. Filmtjocklek: Generellt sett är tjockleken på hård anodisk oxidationsfilm mer än 15 μm, om tjockleken är för låg kommer den inte att uppfylla hårdhetskraven. Även om tjockleken på konventionell anodisk oxidationsfilm är relativt tunn.

2. Yttillstånd: Den konventionella anodiska oxidationsytan är relativt platt, medan den hårda oxidationsytan är relativt grov.

3. Olika porositet: Konventionell anodisk oxidationsporositet är hög, medan hård anodisk oxidationsporositet är låg.

4. Olika appliceringstillfällen: Konventionell anodisk oxidation används huvudsakligen för dekoration, medan hård anodisk oxidation huvudsakligen används för funktion, som vanligtvis används för slitbeständiga och elektriska resistenta tillfällen.